近十年来，全世界对石墨烯和二维材料的研究展开了极大的投放。这些希望没白费。近期，一种可应用于未来超算设备的新型半导体材料浮出水面。

这种半导体取名为硒简化铟(InSe)，它只有几原子薄，十分相似石墨烯。本月，曼彻斯特大学和诺丁汉大学的研究人员们把这项研究公开发表在学术期刊《NatureNanotechnology》上。

硒简化铟（IndiumSelinide，InSe）　　比石墨烯更佳的半导体　　石墨烯只有一层原子那么薄，具备无可比拟的导电性。全世界的专家们都在飨宴石墨烯在未来电路中的应用于。

　　尽管有那么多的头脑属性，石墨烯却没能隙（energygap）。不同于普通的半导体，它的化学展现出更加看起来金属。这使得它在类似于晶体管的应用于上前景黯淡。　　这项新发现证明，硒简化铟晶体可以做到得只有几层原子那么厚。

它已展现出出有大幅度高于硅的电子属性。而硅是今天的电子元器件（特别是在是芯片）所广泛用于的材料。

　　更加最重要的是，跟石墨烯有所不同，硒简化铟的能隙相当大。这使得它制成的晶体管可以很更容易地打开/重开。这一点和硅很像，使硒简化铟沦为硅的理想替代材料。

人们可以用它来制作下一代超高速的电子设备。　　石墨烯之父：它是硅和石墨烯中间的理想材料　　当下，科学家们很讨厌把石墨烯和其他杰出的材料融合一起。让石墨烯的非凡属性和其他材料的特点展开有序。

这往往产生令人兴奋的科学找到，并不会以我们想象将近的方式应用于在实际问题中。　　石墨烯之父SirAndreGeim说道：　　超薄的硒简化铟，是正处于硅和石墨烯之间的理想材料。

类似于石墨烯，硒简化铟具备天然超薄的形态，使确实纳米级的工艺沦为有可能。又和硅类似于，硒简化铟是杰出的半导体。

SirAndreGeim　　由于找到了石墨烯，SirAndreGeim取得了诺贝尔物理学奖。他同时也是这项研究的作者之一。他指出，这项硒简化铟的找到不会对未来电子产业产生极大冲击。

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